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Saisissez un montant supérieur ou égal à l’enchère minimum ($9,900.00).
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USD
Type de lot: Internet Auction
Localisation: Freehold, NJ US
Heure d’ouverture: 9 May 2019 12:00 AM ET
Heure de fermeture: 21 May 2019 04:00 PM ET
Temps restant: 1 Days, 9 Hours, 0 Minutes
Total des enchères: 0
Enchère minimum: $9,900.00 USD
Oxford Instruments Plasmalab 800 Plus PECVD Large Capacity Open Loaded Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System. A 460mm diameter electrode offers a capacity of up to twelve 4 in. wafers. Ideally suited for batch PECVD processing where excellent across chamber uniformity of less than 2 percent is achieved for silicon nitride and silicon dioxide layers. Last owner had set up for 2 in. wafers. 18.75 in. top electrode with shower head gas input. Footprint is kept to a minimum by locating all electronics and vacuum components within the body of the tool, mass flow controllers are housed separately in a wall mounted gas pod. Six MFC gas controllers, previously used gases He, N2, N2O, NH3, SIH4/N2, CF4. PC controller provides intuitive user interaction with the system via advanced graphics and process recipe pages. Includes vacuum pump and blower package. Mfg. 2009, nice condition., (Asset ID 60810), Inspection by Appointment Only. Removal by Appointment Only. Buyer Responsible packing and shipping, All Crating must be performed offsite.
DTID Unités Condition Description
1 GOBIDSRVC60810 1 EA D'occasion OXFORD INSTRUMENTS P
By Appointment Only
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  • Localisation de l’article: 225 Willow Brook Rd, Freehold, NJ 07728 US
  • Responsable de l’installation: Daniel Reynolds
  • E-mail de l’installation: Daniel.Reynolds@liquidityservices.com
  • Pays: US
  • Téléphone: Daniel Reynolds@ 602 513 9206
  • Poids approximatif du lot: Not Available
  • UDM de poids: LB
  • Quantité à livrer: 1
  • Dimensions approximatives ou cubes de lot: Not Available
  • Expéditeurs approuvés

225 Willow Brook Rd, Freehold, NJ 07728 US

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